Китай приблизился к созданию собственного EUV-оборудования при участии бывшего инженера ASML. После ограничений на поставки передовой литографии Пекину приходится развивать такую технологию самостоятельно.
Китайские исследователи создали источник EUV-излучения — ключевой элемент будущего литографического сканера. По данным Newsbit, им помог Линь Нань (Lin Nan), ранее работавший в ASML и занимавшийся такими лазерами.
Раньше китайские разработки показывали эффективность лишь 3,42%: столько энергии превращалось в полезное излучение для работы с пластинами. Мощность составляла около 100–150 Вт, тогда как серийные EUV-системы выдают примерно 600 Вт, а ASML планирует довести показатель до 1000 Вт.
Но лазера недостаточно. Для сканера нужны сложная оптика, зеркала, точные приводы и ПО. По данным Reuters, китайские прототипы пока уступают по качеству оптики.
Поставки передового EUV-оборудования в Китай запретили ещё в 2019 году по инициативе Нидерландов, а затем ограничения поддержали США. Теперь китайской отрасли приходится собирать технологическую цепочку самостоятельно.
Поэтому новый источник — важный шаг, но не готовая замена западным системам. Источники, на которые ссылается материал, считают, что работоспособный китайский EUV-сканер появится не раньше 2028 года, а возможно, только к 2030-му.
Если прогноз оправдается, рынок получит ещё одного самостоятельного игрока. Для бизнеса это может означать больше вариантов поставок и усиление конкуренции.
