Производство современных микросхем зависит не только от самих технологий, но и от того, насколько быстро их можно выпускать. Один из самых сложных этапов — электронно-лучевая литография. Сейчас обработка одной кремниевой пластины может занимать до двух недель. Российские разработчики считают, что этот срок можно сократить до нескольких минут.
Команда при поддержке Национальной технологической инициативы представила проект многолучевого электронного литографа. Главная особенность устройства — специальный мультикатод, который создаёт сразу множество независимых электронных лучей. Если расчёты подтвердятся, время экспонирования получится сократить с полутора-двух недель до 5-7 минут. Это почти в три тысячи раз быстрее.
По словам главного разработчика проекта Евгения Гиваргизова, технология уже создана и прошла первые испытания. В отличие от некоторых зарубежных решений, где один электронный луч приходится дополнительно разделять сложной системой, российская разработка сразу формирует множество источников на одной подложке. Такой подход, как ожидается, может сделать оборудование проще и снизить его стоимость.
Создание первого опытного образца планируется примерно через три года. Разработчики рассчитывают, что новый литограф сможет использоваться для производства микросхем с техпроцессами от 350 нм до нескольких нанометров.
Если проект подтвердит заявленные характеристики, это станет заметным шагом для российской микроэлектроники. Более быстрая и доступная литография может помочь ускорить производство собственных чипов и уменьшить зависимость отрасли от импортного оборудования.
